Product Name | (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1) |
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CAS | 0-0-YH84015 |
ProductNum | YH84015 |
Formula | C37H46O3S2 |
MW | 602.29 |
Product Name | (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1) |
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CAS | 0-0-YH84015 |
ProductNum | YH84015 |
Formula | C37H46O3S2 |
MW | 602.29 |
電子級(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽是一種高純度锍鹽化合物,結合了三芳基锍陽離子的優(yōu)異光敏性和特殊苯磺酸鹽的強酸穩(wěn)定性。該產(chǎn)品具有出色的光敏性能和化學穩(wěn)定性,廣泛用于高端半導體和微電子制造中的光刻膠及相關領域。
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[基本信息]
中文名稱:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)
英文名稱:(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)
分子式:C37H46O3S2
分子量:602.29 g/mol
外觀:淺黃色至白色粉末或晶體。
純度:≥99.9%,符合電子級標準。
溶解性:
(1)溶于極性有機溶劑,如乙腈、二氯甲烷。
(2)對水不溶,表現(xiàn)出較高的疏水性。
熱穩(wěn)定性:在高溫條件下(最高250-300°C)仍能保持化學穩(wěn)定性。
光敏特性:在紫外光激發(fā)下表現(xiàn)出優(yōu)異的反應性能。
[應用領域]
光刻膠配方
(1)用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術,提高分辨率和顯影對比度。
(2)提升光刻膠的曝光靈敏度,滿足納米級微圖形制造需求。
微電子與半導體制造
(1)應用于干法蝕刻技術,支持高精度微納加工。
(2)作為化學放大光刻膠的重要光敏劑,提高光刻工藝效率。
高性能材料研發(fā)
(1)用于制備具有耐高溫和抗化學腐蝕的功能薄膜。
(2)支持高端顯示設備、新能源器件及微電子封裝的精密制造。
優(yōu)勢
本產(chǎn)品憑借其優(yōu)異的光敏性能、高純度及熱化學穩(wěn)定性,為半導體制造工藝提供關鍵支持,適用于苛刻環(huán)境下的高精度制造需求。