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mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate
CAS0-0-YH84019
ProductNumYH84019
FormulaC25H21F9O3S2
MW604.08

電子級(jí)全氟-1-丁烷磺酸間甲基二苯基磺酸鹽是一種高純度的磺酸鹽類化合物,專為半導(dǎo)體和電子材料應(yīng)用設(shè)計(jì)。該化合物由全氟-1-丁烷磺酸根與間甲基二苯基磺酸陽(yáng)離子組成,具有出色的化學(xué)穩(wěn)定性和優(yōu)異的熱性能。作為一種高效的光酸生成劑(PAG),該產(chǎn)品在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中廣泛應(yīng)用,特別適合用于高分辨率和高靈敏度的光刻膠配方,能顯著提升圖形保真度和顯影效果。

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【物理性質(zhì)】

1.基本性質(zhì)

分子式:C25H21F9O3S2

分子量:604.08 g/mol

外觀:白色至淺黃色粉末

純度:≥99.5%

2.溶解性

易溶于極性有機(jī)溶劑,如乙腈、丙酮和二甲基亞砜(DMSO)。

不溶于水,但在有機(jī)溶劑體系中表現(xiàn)出良好的溶解性和穩(wěn)定性。

3.熱穩(wěn)定性

熱分解溫度較高(>250°C),適合用于高溫光刻和苛刻的加工條件。需存放于干燥、避光環(huán)境,避免長(zhǎng)時(shí)間暴露在潮濕空氣中。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

1.光酸生成劑(PAG

作為先進(jìn)光刻膠中的光酸生成劑,在曝光過程中能迅速生成強(qiáng)酸,從而促進(jìn)光刻膠的顯影反應(yīng)。在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中,表現(xiàn)出優(yōu)異的靈敏度和分辨率,適用于下一代芯片制造。

2.光刻膠和抗蝕劑配方

用于高性能光刻膠和抗蝕劑配方中,能夠提升材料的光敏性能和化學(xué)穩(wěn)定性。在微細(xì)加工和高分辨率圖形形成中,提供卓越的邊緣精度和抗蝕刻性能。

3.電子材料添加劑

在電子材料領(lǐng)域作為添加劑,改善薄膜材料的熱穩(wěn)定性和機(jī)械強(qiáng)度,適用于高溫和苛刻環(huán)境下的應(yīng)用。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、顯示器生產(chǎn)及其他高精度電子器件的開發(fā)。

電子級(jí)全氟-1-丁烷磺酸間甲基二苯基磺酸鹽以其優(yōu)越的化學(xué)和熱性能,為現(xiàn)代光電子和半導(dǎo)體制造工藝提供了重要支持。


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86-571-82693216
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