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Triphenylsulfonium [(1-adamantylmethoxy)carbonyl]difluoromethanesulfonate

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name Triphenylsulfonium [(1-adamantylmethoxy)carbonyl]difluoromethanesulfonate
CAS1022939-88-3
ProductNumYH68308
FormulaC31H32F2O5S2
MW586.71

電子級三苯基硫鎓 1-金剛烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽是一種高性能光刻材料,用于先進微電子制造中的光敏劑。其結(jié)構(gòu)結(jié)合了硫鎓離子的優(yōu)異光活性和金剛烷基的穩(wěn)定性,具備高效的光解性能和卓越的電子純度。該化合物廣泛應用于深紫外光刻膠(DUV)和極紫外光刻膠(EUV)中,是實現(xiàn)高分辨率和高精度光刻的關(guān)鍵材料之一。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

1)化學名稱:三苯基硫鎓 1-金剛烷基甲氧基羰基二氟甲烷磺酸鹽。

2)分子式:C31H32F2O5S2

3)分子量:586.71 g/mol

外觀與溶解性

1)外觀:白色至淡黃色結(jié)晶粉末。

2)溶解性:易溶于極性有機溶劑,如二甲基亞砜(DMSO)、丙酮、乙腈等。

熱穩(wěn)定性與純度

1)熱穩(wěn)定性:在高溫下保持化學穩(wěn)定性,分解溫度>200℃。

2)純度:≥99.9%,符合電子級質(zhì)量標準。

【應用領(lǐng)域】

光刻膠材料

1)用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻膠的光敏組分,提升光刻圖形的分辨率和穩(wěn)定性。

2)在半導體制造中實現(xiàn)精密納米圖形的成像和轉(zhuǎn)移。

微電子制造

1)適用于晶圓加工中的光刻環(huán)節(jié),支持高性能芯片的生產(chǎn)工藝。

2)優(yōu)化微結(jié)構(gòu)加工,滿足先進制程對圖形清晰度和形貌精度的需求。

顯示器與光電子器件

1)在顯示器生產(chǎn)中用于制造高分辨率顯示單元的光敏材料。

2)支持光電子器件的開發(fā),提升其光電性能和穩(wěn)定性。


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86-571-82693216
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