Product Name | 2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate |
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CAS | 68510-93-0 |
ProductNum | YH68662 |
Formula | C23H16N2O8S |
MW | 480.45 |
Product Name | 2,3,4-Trihydroxybenzophenone naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonate |
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CAS | 68510-93-0 |
ProductNum | YH68662 |
Formula | C23H16N2O8S |
MW | 480.45 |
電子級(jí)2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯是一種高效光敏化合物,專(zhuān)為先進(jìn)光刻膠配方設(shè)計(jì)。其獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)結(jié)合了二苯甲酮的光化學(xué)活性與疊氮基的光響應(yīng)特性,在紫外光照射下能夠生成活性種,廣泛應(yīng)用于高分辨率光刻工藝中,滿足半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?qū)?xì)圖案的需求。
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【物理性質(zhì)】
基本性質(zhì)
化學(xué)名稱(chēng):2,3,4-三羥基二苯甲酮 1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酸酯
分子式:C23H16N2O8S
分子量:480.45 g/mol
外觀與溶解性
外觀:黃色至橙色粉末
溶解性:易溶于甲醇、乙腈等極性有機(jī)溶劑
熱穩(wěn)定性與儲(chǔ)存條件
熔點(diǎn):約190℃
儲(chǔ)存條件:避光密封儲(chǔ)存,建議儲(chǔ)存溫度為0-10℃,防止氧化和濕氣影響
【應(yīng)用領(lǐng)域】
光刻膠配方
作為光敏劑,顯著提升光刻膠的曝光靈敏度和圖案分辨率。
(1)適配紫外(UV)和深紫外(DUV)光刻工藝。
(2)增強(qiáng)光刻膠顯影過(guò)程中圖案邊緣銳度和清晰度。
半導(dǎo)體制造
廣泛應(yīng)用于集成電路與微電子加工中的圖案轉(zhuǎn)移工藝。
(1)支持先進(jìn)制程的高精度圖形刻蝕,提升線寬控制能力。
(2)優(yōu)化晶圓加工良率,降低缺陷率。
光敏材料研發(fā)
用于開(kāi)發(fā)新型光敏材料,滿足顯示面板、傳感器等高端領(lǐng)域需求。
(1)提升材料的光穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。
(2)增強(qiáng)材料在復(fù)雜環(huán)境下的光響應(yīng)性能,適配多種先進(jìn)光學(xué)應(yīng)用場(chǎng)景。