電子級(jí)三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽是一種高性能光酸生成劑，專為先進(jìn)光刻工藝設(shè)計(jì)。其獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)結(jié)合了三苯基锍和多官能團(tuán)基團(tuán)，具備優(yōu)異的光敏性、化學(xué)穩(wěn)定性以及在苛刻條件下的高效性能。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光刻膠開(kāi)發(fā)以及其他高精度光電子工藝中，支持新一代芯片與微納器件的制造需求。

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【物理性質(zhì)】

基本性質(zhì)

（1）化學(xué)名稱：三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽

（2）分子式：C₃₉H₃₆F₄O₇S₃

（3）分子量：716.83 g/mol

外觀與溶解性

（1）外觀：白色或淺黃色粉末。

（2）溶解性：溶于極性有機(jī)溶劑，如二甲基亞砜（DMSO）、乙腈和甲醇。

熱穩(wěn)定性與純度

（1）熱穩(wěn)定性：熱分解溫度＞200℃，適應(yīng)多種工藝條件。

（2）純度：≥99.9%，符合電子級(jí)材料的嚴(yán)格質(zhì)量要求。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

光刻膠材料

（1）用作DUV和EUV光刻膠中的光酸生成劑，提高光刻分辨率和圖形保真度。

（2）優(yōu)化高端制程工藝，支持先進(jìn)芯片制造需求。

半導(dǎo)體制造

（1）應(yīng)用于晶圓加工中的光敏反應(yīng)，助力實(shí)現(xiàn)高精度圖案轉(zhuǎn)移。

（2）支持5nm及以下節(jié)點(diǎn)技術(shù)工藝。

光電子與顯示技術(shù)

（1）在顯示面板制造中，用于提升圖形處理的精度與分辨率。

（2）適用于光電子器件制造，提高器件的可靠性和性能表現(xiàn)。